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集成电路布图设计保护的立法模式
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华盛顿公约及TRIPS协议只要求各国旅行保护布图设计的义务．并未对立法模式做出硬性规定。根据华盛顿公约第4条，各国可采用的立法模式可以是专门法，也可以是版权法、专利法、使用新型法、外观设计法、反不正当竞争法或者任何其他法律，或者上述任何法律的组合。

(一)专门法保护模式

目前，包括中国在内的绝大多数国家采用专门法来保护集成电路布图设计。这种特别法集现有的版权法和专利法性质、规范为一体，形成一种“特别权利”保护模式。这种专门法在其规范中吸收、借鉴了专利法和版权法中某些成熟的规定，如我国《集成电路布图设计保护条例》，其在权利取得上采取了与专利法一样的登记注册制，且登记注册机关与专利法一样，同为国家知识产权局，在审查上则采用了与外观设计审查相同的形式审查。

(二)外观设计保护模式

采用外观设计保护模式的国家，南非当属典型。1993年12月22日通过的南非《外观设计法》所保护的客体除了艺术性外观设计以外，还包括功能性的外观设计。这种功能性外观设计是“适用于任何物品的外观设计，无论其是适用于该物品的式样，还是形状，抑或是结构，而且也不论其使用方式如何，该设计应具有其所使用的物品能够完成特定功能所必需的特征，包括集成电路拓扑图、掩模作品已经系列掩模作品。”该法首次将布图设计纳入工业产权的外观设计范畴，开创了用单纯工业产权法(外观设计)保护集成电路的先河。


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